请务必阅读正文后的重要声明部分 Table_IndustryInfo 2017 年年 11 月月 05 日日 跟随大市跟随大市(首次首次) 证券研究报告证券研究报告行业研究行业研究电子电子 PVD 镀膜材料行业镀膜材料行业专题专题报告报告 溅射溅射“中国芯” ，蒸镀“中国屏”“中国芯” ，蒸镀“中国屏” 投资要点投资要点 西南证券研究发展中心西南证券研究发展中心 分析师：王国勋 执业证号：S1250517060002 电话：021-68415296 邮箱：wgx 联系人：陈杭 电话：021-68415296 邮箱：chenhang 行业相对指数表现行业相对指数表现 -11% -5% 1% 7% 13% 20% 16/1117/117/317/517/717/917/11 电子沪深300 数据来源：聚源数据 基础数据基础数据 Table_BaseData 股票家数 210 行业总市值（亿元） 32,373.01 流通市值（亿元） 32,237.53 行业市盈率 TTM 42.29 沪深 300 市盈率 TTM 13.9 相关相关研究研究 Table_Report 1. 阿石创（300706） ：溅射靶材新秀，有 望实现高增长 (2017-11-03) 2. 苹果公司（AAPL） ：献礼 iPhone 十周 年始于颜值、 痴于交互、 忠于生态、 成于运营 (2017-09-12) 3. 安防行业专题报告：智能新篇开启，再 论“安防双雄” (2017-07-19) 4. 电子行业 2017 年中期策略报告：大陆 电子产业链方兴未艾 (2017-07-10) 5. 射频行业专题报告：5G 拉动射频器件 需求，国产化趋势已经确立 (2017-06-28) 溅射靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头。溅射靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头。全球溅射靶材市场容量 持续增加，预计 2019 年市场规模将超过 163 亿美元，2016-2019 年均复合增 长率达 13%。下游应用半导体、平板显示器以及太阳能电池等产业发展势头强 劲。其中全球半导体市场处于整体平稳上升阶段，中国半导体产业市场这几年 增速发展迅猛，2009-2016 年均复合增长率达 18%。平板显示行业前景广阔， 稳定增长，大尺寸平板显示器需求在 20172018 预计会增长 5%-6%，且产 业重心向中国大陆转移将有利推动 PVD 镀膜产业的快速增长。全球性太阳能 光伏装机量的快速增长和中国光伏装机量的井喷式爆发给溅射靶材市场带来 了巨大的成长空间。光学元器件行业应用多元化，智能手机的普及和监控设备 的使用给镀膜行业打造了新的利润增长点。 美、日垄断美、日垄断镀膜行业，政策镀膜行业，政策利好利好国产企业国产企业。高纯溅射靶材技术含量高，设备专 用性强，世界范围内被霍尼韦尔、日矿金属等美、日跨国企业垄断。蒸镀设备 扼住 OLED 生产的咽喉，被日、韩等企业绝对垄断，竞争格局是“一超多强”。 得“蒸镀设备”者得“OLED”天下，国产企业大力布局 OLED 产线，蒸镀设 备“一机难求”。受益于国家政策战略支持，中国 PVD 镀膜材料在技术和市 场上都取得长足进步，涌现出阿石创、江丰电子等具有竞争力的企业。 产业参与企业金字塔分布， 产业分布强区域性。产业参与企业金字塔分布， 产业分布强区域性。 产业上游靶材制造技术门槛高、 设备投资大，被美、日少数企业掌控，产业分布具有较强的区域性，对下游溅 射靶材行业具有较强的议价能力。下游劳动力密集型，参与企业众多，应用领 域的不断拓展，将对 PVD 镀膜需求产生持续拉动作用。 投资策略与重点关注个股：投资策略与重点关注个股： 目前国内消费电子行业快速发展， PVD 镀膜市场容 量不断增加。加上国家政策对国产企业的大力扶持，我们认为镀膜市场有很光 明的前景，给予行业“跟随大市”评级。在个股投资方面，我们推荐重点关注 阿石创（300706）。阿石创是国内领先的溅射靶材和蒸镀材料供应商，凭借多 样化靶材绑定、背板精密加工等核心技术，成功建立起较为全面的产品供应体 系，并积极扩大公司平板显示溅射靶材的产能，提升公司产品的市场竞争力。 风险提示：风险提示：行业上游原材料价格的波动或行业下游需求因宏观经济原因产生的 波动。 重点公司盈利预测与评级重点公司盈利预测与评级 代码代码 名称名称 当前当前 价格价格 投资投资 评级评级 EPS（元）（元） PE 2016A 2017E 2018E 2016A 2017E 2018E 300706 阿石创 86.77 买入 0.46 0.65 1.29 179 126 64 数据来源：Wind，西南证券 PVDPVD 镀膜材料行业镀膜材料行业专题专题报告报告 请务必阅读正文后的重要声明部分 目目 录录 1 PVD 镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜 1 1.1 溅射镀膜和溅射靶材 . 1 1.2 真空蒸发镀膜和蒸镀材料 . 4 2 溅射靶材市场容量巨大，景溅射靶材市场容量巨大，景气度不断增加气度不断增加 7 2.1 市场容量分析 . 7 2.2 半导体行业：发展迅猛，需求旺盛 . 7 2.3 平板显示行业：稳定增长，前景广阔 . 9 2.4 太阳能行业：高速发展，井喷增长 . 10 2.5 光学元器件行业：多元驱动，稳步发展 . 11 3 PVD 镀膜行业竞争格局：美、日垄断，中国崛起镀膜行业竞争格局：美、日垄断，中国崛起 13 3.1 溅射靶材被美、日、德跨国企业垄断 . 13 3.2 大陆 OLED 产线如雨后春笋，蒸镀设备一机难求 . 14 3.3 政策利好国内厂商，有望松动垄断格局 . 16 4 产业链自上而下金字塔分布，产业特征强区域性产业链自上而下金字塔分布，产业特征强区域性 . 18 4.1 溅射靶材产业链各环节参与企业数量基本呈金字塔型分布 18 4.2 溅射靶材上游产业集中度高，下游产业市场扩容 . 19 4.3 产业特征：弱周期性，强区域性 . 19 5 投资策略投资策略 . 20 PVDPVD 镀膜材料行业镀膜材料行业专题专题报告报告 请务必阅读正文后的重要声明部分 图图 目目 录录 图 1：溅射镀膜工作原理示意图 . 1 图 2：溅射靶材 . 2 图 3：溅射靶材发展历程 . 2 图 4：溅射靶材产业链 . 3 图 5：溅射靶材工艺流程 . 4 图 6：真空蒸发镀膜工作原理示意图 . 5 图 7：真空镀膜材料 . 5 图 8：真空镀膜材料加工工艺流程 . 6 图 9：溅射镀膜和蒸发镀膜对比 . 6 图 10：2016 年全球溅射靶材市场容量（亿美元） 7 图 11：全球高纯溅射靶材市场规模预测（亿美元） . 7 图 12：全球半导体 2008-2016 销售额 8 图 13：中国半导体 2009-2017 销售额及预测 8 图 14：2011-2017 全球半导体用溅射靶材市场规模及预测 . 9 图 15：2010-2016 中国半导体用溅射靶材市场规模及预测 . 9 图 16：平板显示行业镀膜工艺流程 . 9 图 17：2013-2017 全球触控屏出货量及预测 . 10 图 18：2013-2017 中国触控屏出货量及预测 . 10 图 19：2009-2016 全球累积光伏装机量 . 11 图 20：2009-2016 中国累积光伏装机量 . 11 图 21：2014-2019 中国视频监控设备市场规模及预测 . 12 图 22：2015-2020 全球车载摄像头市场规模预测 . 12 图 23：OLED 制造工艺流程 . 15 图 24：ELVESS OLED 大规模生产系统 . 16 图 25：Sunic OLED 蒸镀设备 . 16 图 26：高纯溅射靶材产业链各环节参与企业数量呈金字塔型分布 . 18 图 27：溅射靶材生产企业主要集中在美国、日本 . 20 PVDPVD 镀膜材料行业镀膜材料行业专题专题报告报告 请务必阅读正文后的重要声明部分 表表 目目 录录 表 1：溅射靶材分类 . 2 表 2：蒸镀材料种类 . 5 表 3：全球太阳能电池用溅射靶材市场规模 . 11 表 4：各品牌手机 2015 年和 2016 年的市场份额和增长率情况 . 12 表 5：国外主要溅射靶材厂商 . 13 表 6：国内 OLED 产线布局统计 14 表 7：中小尺寸 OLED 蒸镀设备主要厂商 15 表 8：国家大力支持溅射靶材相关政策 . 16 表 9：国内主要 PVD 镀膜材料厂商 17 表 10：溅射靶材产业链各环节主要公司 . 19 表 11：重点关注公司盈利预测与评级 . 20 PVDPVD 镀膜材料行业镀膜材料行业专题专题报告报告 请务必阅读正文后的重要声明部分 1 1 PVD 镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜 PVD（Physical Vapor Deposition）技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件 下采用物理方法， 将某种材料气化成气态原子、 分子或部分电离成离子， 并通过低压气体 （或 等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、 抗氧化、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展，PVD 镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料 等领域，溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种 PVD 镀膜方式。 1.1 溅射镀膜和溅射镀膜和溅射靶材溅射靶材 溅射（Sputtering）镀膜技术利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形 成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的 原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的 原材料，称为溅射靶材。 溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。靶 坯属于溅射靶材的核心部分，是高速离子束流轰击的目标材料。靶坯被离子撞击后，其表面 原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。由于高纯度金属强度较低，因此溅射靶 材需要在高电压、高真空的机台环境内完成溅射过程。超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通 过不同的焊接工艺进行接合，背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好的导 电、导热性能。 图图 1：溅射镀膜工作原理溅射镀膜工作原理示意图示意图 数据来源：江丰电子招股说明书，西南证券整理 按使用的原材料材质不同，溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶 材等。 溅射镀膜工艺可重复性好、 膜厚可控制， 可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜， 所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料 的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有 高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材 料。 PVDPVD 镀膜材料行业镀膜材料行业专题专题报告报告 请务必阅读正文后的重要声明部分 2 表表 1：溅射靶材：溅射靶材分类分类 分类标准分类标准 产品名称产品名称 按形状分类 长靶、方靶、圆靶 按化学成分分类 金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等）、合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化 物、碳化物、硫化物等） 按应用领域分类 半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材 数据来源：江丰电子招股说明书， 西南证券整理 图图 2：溅射靶材溅射靶材 数据来源：阿石创招股说明书，西南证券整理 溅射技术起源于 1842 年格罗夫在实验室发现了阴极溅射现象。他在研究电子管阴极腐 蚀的时候，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了。但是由于当时的实验设备比较落后，对于 溅射的物理