TFT阵列制程 一 玻璃基板 清洗 玻璃基板 清洗 透明导电薄膜溅镀成型 glass 溅镀 栅极线 CS（电容） gas：Kr N2 涂光阻胶 玻璃基板 涂光阻胶 暴光 玻璃基板 掩膜 清除已经发生化学变化的光阻胶 玻璃基板 蚀刻 玻璃基板 去光阻胶 玻璃基板 栅极 Cs（存储 电容） 栅极 Open/Short Text glass text 二 I/S PEP 清洗 玻璃基板 清洗 AP-CVD glass SiH4 O2 N2 Gate SiOx 清洗 玻璃基板 清洗 P-CVD glass SiH4 N2O N2 SIH4 NH3 N2 SIH4 H2 SiH4 NH3 N2 SiOx g-SiNx a-si SiNx Clenaing glass cleaning O2 ashing glass SiNx SiOx Coating(涂覆光阻胶) glass Back exosre glass Exposure（暴光） glass Developing（显影） glass Wet etching（湿蚀刻） glass Strip（剥落光阻胶） glass 三 AI PEP cleaning Glass N+cleaning P-CVD glass N+a-si Coating（涂覆光阻胶） glass Exposure（暴光） glass Developing（显影） glass CDE dry etching（干蚀刻） glass Strip（剥落光阻胶） glass 四 PX PEP Cleaning glass ITO cleaning ITO sputter（ITO溅镀） glass ITO sputter ITO cleaning（ITO清洗） glass cleaning Coating（涂覆光阻胶） glass Exposure （暴光） glass Developing （显影） glass Wet etching （湿蚀刻） glass Strip （剥落光阻胶） glass 五 TH PEP Coating glass Exposure （暴光） glass Developing （显影） glass Wet etching （湿蚀刻） glass Sttip （剥落光阻胶） glass 六 SL PEP Clenaing glass S/D cleaning S/D Sputter（Sourse Date Line 溅镀 ） glass S/D sputter S/D Cleaning（S/D 清洗） glass cleaning Coating （涂覆光阻胶） glass Exposure （暴光） glass Developing （显影） glass S/D Etching（S/D蚀刻） glass N+Cut（N+ 切割） glass Strip （剥落光阻胶） glass 七 PV PEP Cleaning glass cleaning P-CVD glass Coating （涂覆光阻胶） glass Exposure （暴光） glass Developing （显影） glass Dry etching（干蚀刻） glass Strip （剥落光阻胶） glass TEXT glass TEXT glass 知识回顾知识回顾 Knowledge Knowledge ReviewReview