www.soopat.com注：本页蓝色字体部分可点击查询相关专利SooPAT一种高阻隔反射型太阳电池背膜一种高阻隔反射型太阳电池背膜申请号：2 0 0 9 2 0 2 2 0 2 3 6 . 0 申请日：2 0 0 9 -1 0 -2 7申请( 专利权) 人申请( 专利权) 人苏州中来太阳能材料技术有限公司地址地址2 1 5 5 0 0 江苏省常熟市虞山高新技术产业园建业路3 号发明( 设计) 人发明( 设计) 人林建伟 张育政 司琼 夏文进 郑向阳主分类号主分类号H 0 1 L 3 1 / 0 2 0 3 ( 2 0 0 6 . 0 1 ) I分类号分类号H 0 1 L 3 1 / 0 2 0 3 ( 2 0 0 6 . 0 1 ) I H 0 1 L 3 1 / 0 4 8 ( 2 0 0 6 . 0 1 ) I B 3 2 B 1 5 / 0 2 ( 2 0 0 6 . 0 1 ) I B 3 2 B 1 5 / 2 0 ( 2 0 0 6 . 0 1 ) I B 3 2 B 1 5 / 0 8 2 ( 2 0 0 6 . 0 1 ) I公开( 公告) 号公开( 公告) 号2 0 1 5 9 0 4 1 9 U公开( 公告) 日公开( 公告) 日2 0 1 0 -0 9 -2 2专利代理机构专利代理机构北京金之桥知识产权代理有限公司 1 1 1 3 7代理人代理人林建军(10)授权公告号 CN 201590419 U (45)授权公告日 2010.09.22CN 201590419 U*CN201590419U*(21)申请号 200920220236.0(22)申请日 2009.10.27H01L 31/0203(2006.01) H01L 31/048(2006.01) B32B 15/02(2006.01) B32B 15/20(2006.01) B32B 15/082(2006.01)(73)专利权人 苏州中来太阳能材料技术有限公 司 地址 215500 江苏省常熟市虞山高新技术产 业园建业路 3 号(72)发明人 林建伟 张育政 司琼 夏文进 郑向阳(74)专利代理机构 北京金之桥知识产权代理有 限公司 11137 代理人 林建军(54) 实用新型名称 一种高阻隔反射型太阳电池背膜(57) 摘要一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 包括高透 光基材和位于所述基材内表面的铝膜层， 在所述 基材的外表面和 / 或所述铝膜层的内表面涂覆有 基于丙烯酸聚合物的高透光紫外吸收层。本实用 新型的铝膜层与基材复合， 使得背板具有高阻隔 性能， 尤其对水蒸气的具有更好阻隔， 防潮性能好 和耐候性能更好， 并对外部光照有较高的反射效 果， 有利于提高光能的利用率。(51)Int.Cl.(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 1 页*CN201590419U*CN 201590419 UCN 201590419 UCN 201590422 U1/1 页21. 一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 包括高透光基材和位于所述基材内 表面的铝膜层， 在所述基材的外表面和 / 或所述铝膜层的内表面涂覆有基于丙烯酸聚合物 的高透光紫外吸收层。 2. 如权利要求 1 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述铝膜层的 厚度为 1nm 30nm。 3. 如权利要求 2 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述铝膜层的 厚度为 1nm 15nm。 4. 如权利要求 1 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述基材的厚 度为 0.05mm 0.35mm。 5. 如权利要求 4 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述基材的厚 度为 0.15mm 0.2mm。 6. 如权利要求 1 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述紫外吸收 层的厚度为 0.001mm 0.01mm。 7. 如权利要求 6 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述紫外吸收 层的厚度为 0.003mm 0.005mm。 8. 如权利要求 1 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述铝膜层的 内表面或位于铝膜层内表面的紫外吸收层的内表面具有经辐照或等离子体氟硅氧烷化处 理形成的氟硅氧烷化成膜层。 9. 如权利要求 8 所述的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 其特征在于 ： 所述氟硅氧烷 化成膜层的厚度为 0.01 微米至 5 微米。权 利 要 求 书CN 201590419 UCN 201590422 U1/3 页3一种高阻隔反射型太阳电池背膜技术领域 ：0001 本实用新型涉及一种用于太阳电池中的组件， 尤其涉及一种高阻隔反射型太阳电池背膜。背景技术 ：0002 太阳电池板通常是一个叠层结构， 主要包括玻璃表层、 EVA 密封层、 太阳电池片、EVA密封层和太阳电池背膜， 其中太阳电池片被两层EVA密封层密封包裹。 太阳电池背膜的 主要作用是提高太阳电池板的整体机械强度， 另外可以防止水汽渗透到密封层中， 影响电 池片的使用寿命。为了提高背膜的整体性能， 现有技术中出现了大量针对背膜进行改进的 方案。例如， 日本专利公开号为 JP2008085294(A) 的专利， 公开日为 2008 年 4 月 10 日， 公 开了一种太阳电池背膜及其制备方法， 该背膜包括表层的树脂膜， 一层阻隔膜和一层背面 的树脂膜， 表层树脂膜的主要成分是聚乙烯。 在表层树脂模和阻隔膜之间还有一层绝缘膜。 铝箔层或有机氧化层作为阻隔层， 其背面树脂模主要成分为PEN和PET。 上述方案的生产成本低， 性能优良， 其剥离强度高， 阻水性能好， 耐候性好。 但上述方案中铝箔与其他膜层之间 的复合需要通过胶进行粘结， 但是粘结强度不够理想， 在长期使用过程中胶最先老化， 造成 背膜本身的分层。实用新型内容 ：0003 本实用新型所要解决的技术问题在于克服上述现有技术之不足， 提供一种具有高的防水性、 抗紫外线性、 高粘结性太阳电池背膜， 同时还具备镜面反射的效果， 从而提高组 件发电效率。0004 按照本实用新型提供的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 包括高透光基材和位于所述基材内表面的铝膜层， 在所述基材的外表面和 / 或所述铝膜层的内表面涂覆有基于丙 烯酸聚合物的高透光紫外吸收层。0005 按照本实用新型提供的一种高阻隔反射型太阳电池背膜还具有如下附属技术特征 ：0006 所述铝膜层为纳米级铝粉和树脂混合均匀涂覆形成的膜层。0007 所述铝膜层的厚度为 1nm 30nm。0008 所述铝膜层的厚度为 1nm 15nm。0009 所述基材的厚度为 0.05mm 0.35mm。0010 所述基材的厚度为 0.15mm 0.2mm。0011 所述紫外吸收层的厚度为 0.001mm 0.01mm。0012 所述紫外吸收层的厚度为 0.003mm 0.005mm。0013 所述铝膜层的内表面或位于铝膜层内表面的紫外吸收层的内表面具有经等离子体氟硅氧烷化处理形成的氟硅氧烷化成膜层。0014 所述氟硅氧烷化成膜层的厚度为 0.01 微米至 5 微米。说 明 书CN 201590419 UCN 201590422 U2/3 页40015 按照本实用新型提供的一种高阻隔反射型太阳电池背膜与现有技术相比具有如下优点 ： 首先， 所述基材与铝膜层复合， 不但具有良好的阻水性能， 同时具有优异的附着力， 同时还具备镜面反射的效果， 从而提高组件发电效率 ； 其次， 本实用新型对高透光基材表面 复合添加有紫外吸收剂和紫外稳定剂的丙烯酸聚合物树脂， 使得面膜的外侧具有吸收紫外 线的功能 ； 再次， 本实用新型的表层形成有氟硅氧烷化成膜层， 使其具有较高的粘结性， 与 不同的 EVA 和硅胶都具有很好的相容性。附图说明 ：0016 图 1 是本实用新型的一种实施例的结构示意图。具体实施方式 ：0017 如图 1 所示， 按照本实用新型提供的一种高阻隔反射型太阳电池背膜， 包括高透光基材1和位于所述基材1内表面的铝膜层3， 在所述基材1的外表面和所述铝膜层3的内 表面涂覆有基于丙烯酸聚合物的高透光紫外吸收层 2。本发明的铝膜层 3 为纳米级铝粉和 树脂混合均匀涂覆形成的膜层。纳米铝的含量以重量计为 10 90， 优选 40 80。通 过将混合有纳米铝的树脂均匀涂布在高透光基材 1， 使得本实用新型具有非常突出的阻隔 性， 整体的防潮性能和耐候性能， 并对外部光线有较高的反射效果， 有利于提高光能的利用 率。本实用新型的铝膜层中的树脂应该是具有高度分散性和低分子量的树脂， 同时具有高 附着力， 如羟基丙烯酸树， 其含量为 ： 10 90， 优选 20 60。0018 在所述基材1的外表面和所述铝膜层3的内表面涂覆有基于丙烯酸聚合物的高透光紫外吸收层 2， 这种膜为高硬度的高透光的具有吸收紫外线作用的保护层， 如添加有紫外 稳定剂和吸收剂的聚丙烯酸聚合物树脂， 所述紫外稳定剂为受阻胺类聚合物， 所述紫外吸 收剂为纳米级 SiO2、 TiOX的一种或多种的混合物， 所述紫外吸收层 2 的厚度为 0.001mm 0.01mm， 优选 0.003mm 0.005mm。具体数值可以选为 0.002mm、 0.003mm、 0.004mm、 0.005mm 和 0.008mm， 其中选用 0.003mm、 0.004mm 和 0.005mm 时， 性价比最高， 也更能满足工艺的要求。0019 在本实用新型给出的上述实施例中， 所述基材 1 的厚度为 0.05mm 0.35mm， 优选的方案为 0.15mm 0.2mm， 具体数值可以选为 0.10mm、 0.15mm、 0.18mm、 0.20mm、 0.25mm、 0.30mm、 0.35mm。选择上述厚度的基材 1 可以使背膜具有较高的强度， 同时， 也利于加工和 整体性能的提高。0020 在本实用新型给出的上述实施例中， 所述铝膜层 3 的厚度在 1nm 30nm， 优选1nm 15nm。具体可以选用 1nm、 5nm、 10nm、 12nm、 15nm、 18nm、 21nm、 28nm。选择上述厚度的 铝膜层 3 具有较好的效果， 能够满足本实用新型的需求， 具有较高的性价比。0021 为了提高背膜与 EVA、 硅胶等胶黏剂的粘结强度， 本实用新型在位于铝膜层 3 内表面的紫外吸收层的内表面具有经等离子体氟硅氧烷化处理形成的氟硅氧烷化成膜层 4。所 述氟硅氧烷处理的改性剂选自硅烷偶联剂、 氟硅氧烷或聚硅氧烷一种或多种混合物。所述 硅氧烷化成膜层 4 的厚度为 0.01 微米至 5 微米， 优选的方案是在 0.1 微米至 2 微米之间， 具体数值可以选为 0.01 微米、 0.05 微米、 0.1 微米、 0.2 微米、 0.5 微米、 0.8 微米、 1 微米、 1.5 微米、 2 微米。将氟硅氧烷化成膜层 4 的厚度限定在上述尺寸范围内可以更好的满足粘说 明 书CN 201590419 UCN 201590422 U3/3 页5结性的需求， 而选择上述具体厚度值， 可以更好的满足工艺要求， 利于氟硅氧烷化成膜层的 加工。0022 在本实用新型给出的实施例中， 也可以只在所述基材的外表面涂覆高透光紫外吸收层 2， 此时， 在所述铝膜层的内表面具有经等离子体氟硅氧烷化处理形成的氟硅氧烷化成 膜层 4。0023 本实用新型的铝膜层采用涂覆沉积的使铝膜层复合在高透光基材上， 不但大大提高了背膜的阻水性能， 并对外部光照有较高的反射效果， 有利于提高光能的利用率， 同时确 保