材料加工专业优秀论文材料加工专业优秀论文 高岭石高岭石葡萄糖插层复合物原位制备葡萄糖插层复合物原位制备SialonSialon 材料材料关键词：十二烷基胺关键词：十二烷基胺 高岭石高岭石- -葡萄糖葡萄糖 插层复合物插层复合物 无压烧结无压烧结 SialonSialon 陶瓷材料陶瓷材料 原位制备原位制备 压制成型压制成型摘要：本文利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石，葡萄糖层间取代的方 法合成高岭石-葡萄糖插层复合物。以高岭石-葡萄糖插层复合物为前驱体，采 用原位碳热还原、氮化反应技术合成了 Sialon 粉体。进一步对 Sialon 粉体压 制成型和无压烧结，以获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。并运用 XRD、FT- IR、TG、DSC 等技术表征反应过程和产物特征。 本论文主要获得了以下研究 成果： 1、经十二烷基胺插层后，高岭石的 dlt;,001gt;值由 0.717nm 增加为 2.280nm，层间距增加 1.563nm，插层率为 70。十二烷基胺以 NH 基团与高岭石四面体 Si-O 基形成氢键。高岭石/十二烷基胺插层复合物在 215以下是稳定的。 2、葡萄糖取代十二烷基胺后，高岭石的 dlt;,001gt;值增加为 3.363 nm 衍射峰，使高岭石层间域扩大 2.646 nm，插层率为 87。葡萄糖以 C=O 基团与高岭石内表面羟基形成氢键， 复合物在 250以下是稳定的。 3、以高岭石葡萄糖插层复合物为前驱体， 采用原位碳热还原、氮化反应技术，在 1450保温 4 小时， 500ml/minNlt;,2gt;流量的反应条件下合成了 Sialon 粉体，产物中 结晶相主要有：Sialon 相(以 -Sialon 为主)和少量莫来石。 4、以高岭土 为主要原料，采用碳热还原、氮化反应合成的 Sialon 粉末为主要原料，分别添 加 8.5Allt;,2gt;Olt;,3gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;和 8.5Silt;,3gt;Nlt;,4gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;(均为质量分数，)系两种烧 结助剂后进行充分混合，混合物粉末在钢模中冷压成两种压坯试样，然后在 Nlt;,2gt;气氛中分别在 1650保温 4h 和 1550保温 4h 进行无压 烧结，获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。试样的体积密度分别达到最高值 3.1g/cmlt;#39;3gt;和 3.02g/cmlt;#39;3gt;)； 显微硬度分别为 1639 Hv/GPalt;,0.5gt;和 1651Hv/GPalt;,0.5gt;。正文内容正文内容本文利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石，葡萄糖层间取代的方法 合成高岭石-葡萄糖插层复合物。以高岭石-葡萄糖插层复合物为前驱体，采用 原位碳热还原、氮化反应技术合成了 Sialon 粉体。进一步对 Sialon 粉体压制 成型和无压烧结，以获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。并运用 XRD、FT- IR、TG、DSC 等技术表征反应过程和产物特征。 本论文主要获得了以下研究 成果： 1、经十二烷基胺插层后，高岭石的 dlt;,001gt;值由 0.717nm 增加为 2.280nm，层间距增加 1.563nm，插层率为 70。十二烷基胺以 NH 基团与高岭石四面体 Si-O 基形成氢键。高岭石/十二烷基胺插层复合物在 215以下是稳定的。 2、葡萄糖取代十二烷基胺后，高岭石的 dlt;,001gt;值增加为 3.363 nm 衍射峰，使高岭石层间域扩大 2.646 nm，插层率为 87。葡萄糖以 C=O 基团与高岭石内表面羟基形成氢键， 复合物在 250以下是稳定的。 3、以高岭石葡萄糖插层复合物为前驱体， 采用原位碳热还原、氮化反应技术，在 1450保温 4 小时， 500ml/minNlt;,2gt;流量的反应条件下合成了 Sialon 粉体，产物中 结晶相主要有：Sialon 相(以 -Sialon 为主)和少量莫来石。 4、以高岭土 为主要原料，采用碳热还原、氮化反应合成的 Sialon 粉末为主要原料，分别添 加 8.5Allt;,2gt;Olt;,3gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;和 8.5Silt;,3gt;Nlt;,4gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;(均为质量分数，)系两种烧 结助剂后进行充分混合，混合物粉末在钢模中冷压成两种压坯试样，然后在 Nlt;,2gt;气氛中分别在 1650保温 4h 和 1550保温 4h 进行无压 烧结，获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。试样的体积密度分别达到最高值 3.1g/cmlt;#39;3gt;和 3.02g/cmlt;#39;3gt;)； 显微硬度分别为 1639 Hv/GPalt;,0.5gt;和 1651Hv/GPalt;,0.5gt;。 本文利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石，葡萄糖层间取代的方法合成 高岭石-葡萄糖插层复合物。以高岭石-葡萄糖插层复合物为前驱体，采用原位 碳热还原、氮化反应技术合成了 Sialon 粉体。进一步对 Sialon 粉体压制成型 和无压烧结，以获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。并运用 XRD、FT-IR、TG、DSC 等技术表征反应过程和产物特征。 本论文主要获得了以下研究成果： 1、 经十二烷基胺插层后，高岭石的 dlt;,001gt;值由 0.717nm 增加为 2.280nm，层间距增加 1.563nm，插层率为 70。十二烷基胺以 NH 基团与高岭 石四面体 Si-O 基形成氢键。高岭石/十二烷基胺插层复合物在 215以下是稳 定的。 2、葡萄糖取代十二烷基胺后，高岭石的 dlt;,001gt;值 增加为 3.363 nm 衍射峰，使高岭石层间域扩大 2.646 nm，插层率为 87。葡 萄糖以 C=O 基团与高岭石内表面羟基形成氢键，复合物在 250以下是稳定的。3、以高岭石葡萄糖插层复合物为前驱体，采用原位碳热还原、氮化反应 技术，在 1450保温 4 小时，500ml/minNlt;,2gt;流量的反应条件 下合成了 Sialon 粉体，产物中结晶相主要有：Sialon 相(以 -Sialon 为主) 和少量莫来石。 4、以高岭土为主要原料，采用碳热还原、氮化反应合成的 Sialon 粉末为主要原料，分别添加8.5Allt;,2gt;Olt;,3gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;和 8.5Silt;,3gt;Nlt;,4gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;(均为质量分数，)系两种烧 结助剂后进行充分混合，混合物粉末在钢模中冷压成两种压坯试样，然后在 Nlt;,2gt;气氛中分别在 1650保温 4h 和 1550保温 4h 进行无压 烧结，获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。试样的体积密度分别达到最高值 3.1g/cmlt;#39;3gt;和 3.02g/cmlt;#39;3gt;)； 显微硬度分别为 1639 Hv/GPalt;,0.5gt;和 1651Hv/GPalt;,0.5gt;。 本文利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石，葡萄糖层间取代的方法合成 高岭石-葡萄糖插层复合物。以高岭石-葡萄糖插层复合物为前驱体，采用原位 碳热还原、氮化反应技术合成了 Sialon 粉体。进一步对 Sialon 粉体压制成型 和无压烧结，以获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。并运用 XRD、FT-IR、TG、DSC 等技术表征反应过程和产物特征。 本论文主要获得了以下研究成果： 1、 经十二烷基胺插层后，高岭石的 dlt;,001gt;值由 0.717nm 增加为 2.280nm，层间距增加 1.563nm，插层率为 70。十二烷基胺以 NH 基团与高岭 石四面体 Si-O 基形成氢键。高岭石/十二烷基胺插层复合物在 215以下是稳 定的。 2、葡萄糖取代十二烷基胺后，高岭石的 dlt;,001gt;值 增加为 3.363 nm 衍射峰，使高岭石层间域扩大 2.646 nm，插层率为 87。葡 萄糖以 C=O 基团与高岭石内表面羟基形成氢键，复合物在 250以下是稳定的。3、以高岭石葡萄糖插层复合物为前驱体，采用原位碳热还原、氮化反应 技术，在 1450保温 4 小时，500ml/minNlt;,2gt;流量的反应条件 下合成了 Sialon 粉体，产物中结晶相主要有：Sialon 相(以 -Sialon 为主) 和少量莫来石。 4、以高岭土为主要原料，采用碳热还原、氮化反应合成的 Sialon 粉末为主要原料，分别添加 8.5Allt;,2gt;Olt;,3gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;和 8.5Silt;,3gt;Nlt;,4gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;(均为质量分数，)系两种烧 结助剂后进行充分混合，混合物粉末在钢模中冷压成两种压坯试样，然后在 Nlt;,2gt;气氛中分别在 1650保温 4h 和 1550保温 4h 进行无压 烧结，获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。试样的体积密度分别达到最高值 3.1g/cmlt;#39;3gt;和 3.02g/cmlt;#39;3gt;)； 显微硬度分别为 1639 Hv/GPalt;,0.5gt;和 1651Hv/GPalt;,0.5gt;。 本文利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石，葡萄糖层间取代的方法合成 高岭石-葡萄糖插层复合物。以高岭石-葡萄糖插层复合物为前驱体，采用原位 碳热还原、氮化反应技术合成了 Sialon 粉体。进一步对 Sialon 粉体压制成型 和无压烧结，以获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。并运用 XRD、FT-IR、TG、DSC 等技术表征反应过程和产物特征。 本论文主要获得了以下研究成果： 1、 经十二烷基胺插层后，高岭石的 dlt;,001gt;值由 0.717nm 增加为 2.280nm，层间距增加 1.563nm，插层率为 70。十二烷基胺以 NH 基团与高岭 石四面体 Si-O 基形成氢键。高岭石/十二烷基胺插层复合物在 215以下是稳定的。 2、葡萄糖取代十二烷基胺后，高岭石的 dlt;,001gt;值 增加为 3.363 nm 衍射峰，使高岭石层间域扩大 2.646 nm，插层率为 87。葡 萄糖以 C=O 基团与高岭石内表面羟基形成氢键，复合物在 250以下是稳定的。3、以高岭石葡萄糖插层复合物为前驱体，采用原位碳热还原、氮化反应 技术，在 1450保温 4 小时，500ml/minNlt;,2gt;流量的反应条件 下合成了 Sialon 粉体，产物中结晶相主要有：Sialon 相(以 -Sialon 为主) 和少量莫来石。 4、以高岭土为主要原料，采用碳热还原、氮化反应合成的 Sialon 粉末为主要原料，分别添加 8.5Allt;,2gt;Olt;,3gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;和 8.5Silt;,3gt;Nlt;,4gt;- 1.5Ylt;,2gt;Olt;,3gt;(均为质量分数，)系两种烧 结助剂后进行充分混合，混合物粉末在钢模中冷压成两种压坯试样，然后在 Nlt;,2gt;气氛中分别在 1650保温 4h 和 1550保温 4h 进行无压 烧结，获得了致密的 Sialon 陶瓷材料。试样的体积密度分别达到最高值 3.1g/cmlt;#39;3gt;和 3.02g/cmlt;#39;3gt;)； 显微硬度分别为 1639 Hv/GPalt;,0.5gt;和 1651Hv/GPalt;,0.5gt;。 本文利用极性有