外層線路制程學習報告b一、刷磨b二、壓膜b三、曝光b四、顯影b五、檢驗b六、退洗一、刷磨b一、目的b先用化學方法(H2SO4)去除表面氧化物及油脂，然後通 過刷輪進一步清潔板面，同時將板面粗化。b二、流程b放板蝕洗循環水洗刷磨中壓復合水洗風干 下板b三、原理b蝕洗CUO+H2SO4=CUSO4+H2Ob H2SO4+油脂=水解反應b刷磨灰色尼龍刷以物理方法對板面進行刷磨一、刷磨b四、討論b1.刷磨輪應有左右擺動裝置，以確保孔四周都均勻磨刷b 避免孔周變形。b2.銅表面粗糙度對干膜密著性影響b a.太平滑，造成密著性差b b.太粗糙，造成電鍍時滲透、蝕刻時側蝕b3.刷磨后，乾燥系統也相當重要。若乾燥不好，表面容b 易再氧化或有白點存在而影響干膜的密著性。二、壓膜b一、目的b通過熱壓滾輪將軟化的半流體狀干膜壓合在板面b二、流程b放板板面清潔預熱壓膜翻板收板b三、原理b壓膜是由加熱來降低光阻膜的粘度，并由壓著滾輪的瞬間壓力將膜體擠入銅面，并靜置以利于干膜的附著 。b四、討論bA.壓力二、壓膜b 實際施于干膜的壓力視壓痕的長度和寬度而定。壓痕b 的形狀又受所施總力量、滾輪直徑、厚度、滾輪 表b 面硬度等因素的影響。bB.溫度b實際溫度與下列因素有關b 1.壓膜速度(熱源與干膜接觸時間)b 2.壓膜溫度(熱源溫度)b 3.材質與厚度(介于熱源和光阻/銅箔介面間的材料導b 熱系數)b 4.預熱溫度(基板的吸熱量和溫度)三、曝光b一、目的b光(360nm）透過底片照射到干膜上，在干膜上產 生b曝光(非線路)與未曝光(線路)部分b二、流程b放板板面清潔曝光(上流、翻板、下流) 暫存 收b板b三、原理b1.曝光反應原理b紫外照射(吸收能量)起始劑裂解出現自由基(自由基轉移) b 單體吸收自由基(聚合或交聯) 形成聚合物三、曝光b2.干膜的化學組成b 粘結劑使光阻劑保持應有的膜體而不致散形。b 單體感光致程重要組成元素。b 感光起始劑影響感光速率的重要成分。b 塑化劑及附著力促進劑b 染料方便目視檢查。b四、討論b 1.平行光平行半角(CHA2)曝光機的平行度b 斜射角(DA1.5)曝光造成的側向偏移b 2.曝光能量(設定值)光強度(隨時間而衰減)時間b 3.吸真空度底片與干膜的貼緊程度b 4.底片的準確度主要在于無塵室的溫、濕度之維護四、顯影b一、目的b通過顯影液與曝光及未曝光之干膜反應，于板面上制 作出所需的圖形。b二、流程b放板顯影-1 顯影-2 水洗風干收板b三、原理b用弱堿性溶液(1%的Na2CO3)噴淋到板子上，與未曝光的干膜(弱酸b 性)發生皂化反應生成鹽而讓干膜膨松易于沖洗掉，使干膜下的b 銅露出來形成線路。而曝光部分則因為結構堅實，不易為弱堿性 水溶液侵蝕，因此得以存留，由此達到顯影的目的。四、顯影b四、討論b1.顯影點的確定b 直接影響顯影效果，可通過自動添加系統改善。b2.顯影機噴液系統的過濾b 過濾不良易導致線路缺口、斷路。b3.乾燥干膜不耐高熱，因此溫度不易過高。b4.顯影常見缺點為b 顯影過渡，顯影不潔，干膜屑、干膜脫落。b 這些缺點最終導致斷路、短路、缺口、滲透。