壮夺夺夺夷L电子工业专用设备主讲教师:刘世元教授吴懿平教授办公电话:87548116移动电话:13986163191电子邮件:shylidmailhust:eduzen机械学院先进制造大楼B310ProfShiyuanLiPage1朋(17弘rsFOROPTOELEGTRONICS讲援内容第一讲:微电子制造工艺流程(回顾)双第二讲:微电子制造装备概述光刻工艺及基本原理第三讲:光热机结构及工作原理(1)第四讲:光刻机结构及工作原理(2)PShiyuanLiPage2ouUuaeayazhongnizersityo/5L上讲内容:完整的IC制造工艺流程eomononseoeeeEeEL疃跚=疃r疃F量wcowuesg蒽窿矗蜘!eonemp一”矗_。v【g一ygmotorlstsop阿疃瞒输幢酬鹰捣A佳wovougscrgtAProfShiyuanLiPage3ou蠢L纳L上讲内容微电子制造装备概述扩效护p扩散雨孔注机丫高二注入遇伟=蒋腱加法工艺E等化泳丫化学气相河CVDEtt#v弯射E人外医外玟讽备一减法工温法刹代机减法工艺反廉二刺队CMP扬先枝辅瓤力工艺丫化学机桃平化秸片渊活机人消活外图形转移兄河林图形转移工艺【关摄海股春影设备外测试及封装3,测涛备后道工艺“划机锋合机PShiyuanLiPage41李伟余ATOazhongizersityo/SciencePechnology义M一上讲内容:光刻工艺流程光刻工艺的8个基本步骤片水ProfShiyuanLiPage5上讲内容:光刘与光刘机么对准和曝光在光刻机(LithographyTool)内进行。其它工艺在涂胺显影机(Track)上进行。刑5ZEEE0动颊顶匹才刀江水孙明仁力光刻机简介光刻机结构及工作原理一PShiyuanLiPage7LozzpoupauypyAaT(，r/r7_旺沥、光刻机简介*微电子装备芯片设计能力芯片制造与制造设备芯片测试与测试设备设备是信息产业的源头:我们开发设备、设备制造芯片、芯片构成器件、器件改变世界!PhoShiyuanuPage8iazhongUnizersityo/Science口75zE园国U0光刻机简介Intel创始人之一摩尔1964年提出,大约每隔12个月:1).芯片能力增加一倍、芯片价格降低一倾;2).广大用户的福音、行业人员的史梦。芯片集成密度不断提升、光刻分辨率的不断提升!*摩尔定律Transistorsi10M心sosgdIMF一一门一一fEn一|0吵C310K32一rnI19751980“1985199019952000ProfShiyuanLiPage9畜*2006国际半导体技术路线图(LTRS)光lj木几简个一一3r_原理研究L样机研发LCLZLLEEE产品量产|。-二心el持续改进吴-一一s一PioShiyuanl