目录紫外臭氧清洗机1 紫外淸洗发展历史2. 紫外臭氧清洗的优势3. 紫外臭氧清洗原理4. 紫外臭氧淸洗匚艺紫外清洗发展历史紫外光表ifii清洗技术在国际上是随着光电子信 息产业的发展而提出来的。七十年代中期美国 军出电子技术和器件实验室应用紫外光照射消 洗石英晶片取得满意的效果。九I年代初，H 本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电 子产品的工业生产过程，并开始向我国个别外 资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV 光清洗机。电燈啊碟鈿斶锻綸騒严洱样._錚叢鋼淞飜躲帚有助于部件和表面的 瞬觀荷隸氣触瓣曙解蠶匍胡嚮过程中保持紫外清洗发展历史随后，LI本在发展紫外光衣血消洗技术的同时，紫外 光表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末，日木 等先进工业国家紫外光农面消洗和改质技术山信息产 业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等匸业牛产过程。二 十吐纪九十年代后期，我国的信息技术和产业以惊人 的速度E速发展，特别是平板显示技术的高速发展， LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断捉升，新型的 OLED显示产品也开始进入市场。由此，对制爸I：艺 过程农而质量要求越來越严格，紫外光表而淸洗技术 的优越性已经得到广泛认可，UV光清洗机的需求吊止 在不断增长。紫外臭氧清洗的优势MYCRO PSD系列紫外臭氧清洗机常用丁 扌弓描探测显微镜的样品丿2用.该设备能用片帯先原子力显微 镜探针,打描探针显微镜标准和衣面上常规的油渍层和残留的无 机材料，也能紫外臭氧清洗效果图紫外臭氧清洗原理原理：通过产生185nm利254nm高强度UV光分解尙 机分子（污染物）o 185nm波长紫外光的光能量能将 宇气中的氧气（02）分解成臭氧（03）,而254nm 波长的紫外光的光能量能将03分解成02和活性氧（0） o在连续进行的光敏氧化反应中，生成的活性 氣原子与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生 氧化反应,生成挥发性气体（如CO2, CO, H2O, NO等）逸出物体表面，从而彻底清除粘附在物体表面 上的有机污染物，达到清洗的H的。紫外光衣而改质低爪報外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除仃诂洗左除物騎测附躅邵隨孙劇縄跚疏般恫 6匚$!巴（头黑幅瑚嫦#厲, 1卜计lLf戕除胡舊紹烏果 显淸,活化的購体农面具有良好的粘合力籾键合待性,这飞斤棊和涂料、 幫鉀辭威籲鵜诫勢敷鑫胡醯鱸魏蠶通打齐鬲衿芋虻匸如* CMo4-o紫外光表而改质原理表达式:丁Fb CHO. COCH 萼f umhf * ri r njoirmE：为紧外线比了能以紫外臭氧清洗工艺用于纳米技术，化学，牛物学，光学，电子学, 半导体和实验室。样品材料:硅氧化硅 金属側化傢氮化硅云母 陶瓷聚合物（有机玻璃）硼硅玻璃石英蓝宝 石其他材料紫外臭氧清洗工艺典型应用包括：衣面的原子级清洗聚合物需接去除冇机分了释放捕获的无机分了微流控制作微米/纳来初型紫外光固化畏茴化学衣性表面杀菌表面氧化金属粘结准备