超声波清洗机的工艺流程一、有机溶剂清洗采用的清洗流程如下:有机溶剂清洗剂超声波-水基清洗剂超声波-市水漂洗-纯水漂洗-IPA异丙醇脱水-IPA慢拉干燥。有机溶剂清洗剂的主要用途是清洗沥青及漆片。以前的溶剂清洗剂多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷属ODS消耗臭氧层物质产品目前处于强制淘汰阶段而 长期使用三氯乙烯易导致职业病而且由于三氯乙烯很不稳定容易水解呈酸性因此会腐蚀镜片及设备。对此国内的清洗剂厂家研制生产了非ODS溶剂型系列清洗剂可 用于清洗光学玻璃并且该系列产品具备不同的物化指标可有效满足不同设备及工艺条件的要求。比如在少数企业的生产过程中镜片表面有一层很难处理的漆片要求使 用具备特殊溶解性的有机溶剂部分企业的清洗设备的溶剂清洗槽冷凝管较少自由程很短要求使用挥发较慢的有机溶剂另一部分企业则相反要求使用挥发较快的有机溶 剂等。水基清洗剂的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是碱金属氧化物溶剂对其清洗能力很弱所以镜片加工过程中产生的研磨粉基本上是在水基清洗单元内除去的故而对 水基清洗剂提出了极高的要求。以前由于国内的光学玻璃专用水基清洗剂品种较少很多外资企业都选用进口的清洗剂。而目前国内已有公司开发出光学玻璃清洗剂并 成功地应用在国内数家大型光学玻璃生产厂清洗效果完全可以取代进口产品在腐蚀性防腐性能等指标上更是优于进口产品。对于IPA慢拉干燥需要说明的一点是某些种类的镜片真空干燥后容易产生水印这种现象一方面与IPA的纯度及空气湿度有关另一方面与清洗设备有较大的关系尤其是双臂干燥的效果明显不如单臂干燥的好需要设备厂家及用户注意此点。二、半水基清洗采用的清洗流程如下:半水基清洗剂超声波-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥此种清洗工艺同溶剂清洗 相比最大的区别在于其前两个清洗单元，有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果但却无法清洗研磨粉等无机物半水基清洗剂则不同不但可以清洗沥青等有 机污染物还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度很慢气味小。采用半水基清 洗剂清洗的设备在第一个清洗单元中无需密封冷凝和蒸馏回收装置。但由于半水基清洗剂粘度较大并且对后续工序使用的水基清洗剂有乳化作用所以第二个单元须市 水漂洗并且最好将其设为流水漂洗。国内应用此种工艺的企业不多其中一个原因是半水基清洗剂多为进口价格比较昂贵。从水基清洗单元开始半水基清洗工艺同溶剂清洗工艺基本相同。三、两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法其优点是清洗速度快效率比较高溶剂本身可以不断蒸馏再生循环使用但缺点也比较明显由于光学玻璃的生产环境 要求恒温恒湿均为封闭车间溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。半水基清洗是近年来逐渐发展成熟的一种新工艺它是在传统溶剂清洗的基础上进行改进而得来的。它有效地避免了溶剂的一些弱点可以做到无毒气味轻微废液可排入 污水处理系统设备上的配套装置更少使用周期比溶剂要更长在运行成本上比溶剂更低。半水基清洗剂最为突出的一个优点就是对于研磨粉等无机污染物具有良好的清 洗效果极大地缓解了后续单元水基清洗剂的清洗压力延长了水基清洗剂的使用寿命减少了水基清洗剂的用量降低了运行成本。缺点就是清洗的速度比溶剂稍慢并且必 须要进行漂洗。1、研磨后的清洗研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量外观和精度的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青少数企业的加工过程中会有漆 片。其中研磨粉的型号各异一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精度不同选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用 的以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。研磨后的清洗设备大致分为两种一种主要使用有机溶剂清洗剂另一种主要使用半水基清洗剂。2、镀膜前清洗镀膜前清洗的主要污染物是求芯油也称磨边油求芯也称定芯、取芯指为了得到规定的半径及芯精度而选用的工序、手印、灰尘等。由于镀膜工序对镜 片洁净度的要求极为严格因此清洗剂的选择是很重要的。在考虑某种清洗剂的清洗能力的同时还要考虑到他的腐蚀性等方面的问题。镀膜前的清洗一般也采用与研磨 后清洗相同的方式分为溶剂清洗和半水基清洗等方式。工艺流程及所用化学药剂类型如前所述。3、镀膜后清洗一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和组装前清洗其中接合前清洗接合是指将两片镜片用光敏胶粘接成规定的形状以满足无法一次加工成型的需求或制 造出较为特殊的曲率、透光率的一道工序要求最为严格。接合前要清洗的污染物主要是灰尘、手印等的混合物清洗难度不大但对于镜片表面洁净度有非常高的要求其 清洗方式与前面两个清洗工艺相同。 / 文档可编辑