国家标准刻蚀机用硅电极及硅环（预审稿）编制说明一、工作简况1. 立项目的与意义本项目生产的硅电极及硅环是刻蚀设备上使用的关键耗材之一，为当今世界争先 发展的高新技术产品。硅电极和硅环因为材质和硅片一样，因此在刻蚀过程中刻蚀速 率有很好的一致性。硅电极及硅环等硅材料制品是集成电路等离子刻蚀设备中的关键 精密部件，对集成电路的生产过程稳定和质量保证有重要的影响。因此，推进硅电极 及硅环标准，自主生产硅产料制品符合集成电路行业装备国产化发展和集成电路产业 竞争力提升的需要。2. 任务来源根据国标委综合 号文件的要求,由有研半导体材料有限公司负责刻蚀机用硅电 极及硅环的制订工作，项目计划编号为 20194172-T-469。3. 项目承担单位概况 有研半导体材料有限公司，原名有研半导体材料股份有限公司，是由北京有色金属研 究总院（简称“有研总院”）作为独家发起人设立的股份有限公司，成立于 1999 年 3 月， 主营半导体材料。该公司的前身是有研总院下属的硅材料研究室，建国以来，一直致力于 硅材料的研发、生产，并承担了“九五”、“十五”“十一五”期间国家硅材料领域多项重 大攻关任务和产业化工程，并支撑和带动了国内相关配套产业和技术发展。现已形成一系 列具有自主知识产权的技术体系和产品品牌，目前主要生产 125mm-200mm 硅单晶及抛光 片，并一直开展300mm抛光片的研发和生产。产品可用于集成电路、分立器件、太阳能等 多个领域，远销美国、日本、西班牙、韩国、台湾、香港等地，在国内外市场具有较高的 知名度和影响力。4. 主要工作过程 本项目在下达计划后，组织了专门的标准编制小组，进行了市场需求、用户要求、相 关标准应用以及我公司相关产品的数据统计等方面的调研和收集。在次基础上提出了本标 准的讨论稿。2019 年 7 月 10 日，由全国有色金属标准化技术委员会组织，在青海省西宁市召开刻 蚀机用硅电极及硅环国家标准第一次工作会议（讨论会），共有中国计量科学研究院、 南京国盛电子有限公司等个单位 位专家参加了本次会议。与会专家对标准资料从标准技 术指标、内容和文本质量等方面进行了充分的讨论，提出了修改意见。根据讨论会意见， 编制组对标准进行修改形成了预审稿。二、标准编制原则和确定标准主要内容的依据1、 编制原则1）查阅相关标准和国内外客户的相关技术要求；2）按照GB/T 1.1和有色方法标准编写示例的要求进行格式和结构编写；3）几何参数、表面质量及缺陷的数据指标。2、确定标准主要内容的依据本标准规定了刻蚀机用硅电极及硅环（简称硅部件）的术语和定义，产品分类，要求， 取样，试验方法，检验规则。本标准适用于直拉法制备的P轻掺直径为（280400）mm的圆柱形单晶，经加工 成刻蚀机用硅电极及硅环，产品用于812英寸等离子刻蚀机上。主要指标包括型号、晶 向、电阻率氧碳含量、缺陷及直径厚度，微孔位置直径、粗糙度及金属含量指标等等。在制定本标准时，我们分析研究了用户要求、国外产品指标，也统计了我们自己的相 关产品的现有测试数据。结合市场需求，用户要求以及现有水平提出了本标准的各项指标。三、标准水平分析本标准定位国际一般水平。四、与我国有关的现行法律、法规和相关强制性标准的关系本标准与国家现行法律、法规和相关强制性标准不存在相违背和抵触的地方。五、重大分歧意见的处理经过和依据。无。六、标准作为强制性标准或推荐性标准的建议 建议本标准作为推荐性国家标准发布实施。七、代替或废止现行有关标准的建议本标准是首次制定标准。不存在废止和替代的问题。八、其他需要说明的事项九、预期效果目前国际上硅电极及硅环无统一的标准，只有刻蚀机厂家内部的标准，如TEL、LAM 和AMAT,本标准的制定，可解决中国硅电极及硅环产品标准缺失的问题，提高硅电极及 硅环的国产化技术水平，替代进口。