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纳米刻蚀技术单 位:南京邮电大学地 址:南京市亚东新城区文苑路9号 邮 编:210046联 系 人:朱金龙 电 话:025-85866909电子信箱:zhujlnjupt.edu.cn成果简介:该项目研发了纳米刻蚀(DPN)技术,已申请及授权多项发明专利。技术指标:首次在 Si/SiOx 表面上得到100纳米以下的Au 的纳米结构和12纳米的Au Nanogaps。创新内容:发明了一种联合“蘸笔”纳米刻蚀 (DPN) 和湿化学腐蚀的方法,在Si/SiOx 表面上构造 Au, Ag 和 Pd 的纳米结构;发明了一种构造“蘸笔”纳米刻蚀 (DPN) Stamp 针尖的方法;发明了一种新的表征自组装膜表面酸碱性 (pK值) 的方法-化学力滴定。成熟程度:试生产阶段。投资规模:投资约1000万;场地200平米左右的超净室。合作方式:面谈。
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